Nome do produto: Óxido de itérbio de alta pureza
Apelido do produto: Trióxido de itérbio, pó de óxido de itérbio, substância padrão de óxido de itérbio
Fórmula química: Yb2O3
Número CAS: 1314-37-0
Número EINECS: 215-234-0
Pureza: 2N5/3N/4N/5N/6N
Aparência: pó branco (morfologia e distribuição de tamanho de partícula podem ser personalizadas de acordo com as necessidades do cliente)
Peso molecular: 394,08
Ponto de fusão: 2346 graus
Ponto de ebulição: 4070 graus
Densidade: 9,17g/cm3
Solubilidade: insolúvel em água
Padrão de produção: XB/T 203-2017
Embalagem: garrafa plástica embalagem a vácuo ou de acordo com as necessidades do cliente
Índice técnico de óxido de itérbio de alta pureza:
substância padrão de óxido de itérbio 5N(o conteúdo de impurezas pode ser personalizado de acordo com as necessidades do cliente):
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Yb2O3/REO |
Maior ou igual a 99,999% |
Impurezas totais de RE |
Menor ou igual a 10 ug/g |
|
Fé |
Menor ou igual a 0,5 ug/g |
Co |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
Si |
Menor ou igual a 2,5 ug/g |
Cr |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
Ca |
Menor ou igual a 3.0 ug/g |
V |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
mg |
Menor ou igual a 0,2 ug/g |
Zn |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
Cu |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
Mn |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
Óxido de itérbio 6N de pureza ultra-alta:
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Yb2O3/REO |
Maior ou igual a 99,9999% |
Impurezas totais de RE |
Menor ou igual a 1.0 ug/g |
|
Fé |
Menor ou igual a 0,01 ug/g |
Co |
Menor ou igual a 0,001 ug/g |
|
Não |
Menor ou igual a 0,01 ug/g |
Cr |
Menor ou igual a 0,01 ug/g |
|
Ca |
Menor ou igual a 0,05 ug/g |
V |
Menor ou igual a 0,01 ug/g |
|
mg |
Menor ou igual a 0,01 ug/g |
Zn |
Menor ou igual a 0,01 ug/g |
|
Cu |
Menos que ou igual para 0.01 ug/g |
Mn |
Menor ou igual a 0,01 ug/g |
Pó ultrafino de óxido de itérbio(teor de impurezas, morfologia, distribuição de tamanho de partícula podem ser personalizados de acordo com as necessidades do cliente):
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Yb2O3/REO |
Maior ou igual a 99,9% |
Impurezas totais de RE |
Menor ou igual a 0,1% |
|
D50 |
Menor ou igual a 500nm |
L.O.I |
Menor ou igual a 0,1% |
|
Fé |
Menor ou igual a 0,5 ug/g |
Co |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
Si |
Menor ou igual a 3,5 ug/g |
Cr |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
Ca |
Menor ou igual a 4,5 ug/g |
V |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
mg |
Menor ou igual a 0,2 ug/g |
Zn |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
|
Cu |
Menor ou igual a 0,2 ug/g |
Mn |
Menor ou igual a 0,1 ug/g |
O óxido de itérbio de alta pureza é um pó branco e, quando contém óxido de túlio, é marrom claro ou amarelo. Ligeiramente higroscópico, absorvendo dióxido de carbono do ar, o óxido de itérbio é o membro alcalino mais fraco do grupo do ítrio, exceto o óxido de lutécio. Yb2O3 é insolúvel em água e ácido frio, solúvel em ácido diluído quente. O óxido de itérbio apresenta desempenho superior na fabricação de materiais de ímã permanente, vidro, corantes cerâmicos, materiais de laser, materiais de revestimento de proteção térmica, materiais eletrônicos, materiais de bateria, produtos biofarmacêuticos, indústria eletrônica e aplicações de pesquisa química. Com o desenvolvimento da ciência e da tecnologia, o óxido de itérbio de partículas grandes é usado em revestimento, pulverização catódica, revestimento a vácuo e outros campos.
Método de preparação de óxido de itérbio:
Usando enriquecimento de terras raras contendo itérbio como matéria-prima, Yb3+ é separado de outros íons de terras raras por extração com solvente, troca iônica ou redução. Em seguida, o itérbio é precipitado na forma de hidróxido, carbonato e oxalato usando precipitantes apropriados. O óxido de itérbio pode ser obtido pela queima de seu hidróxido, carbonato ou oxalato.
Usos do óxido de itérbio:
O óxido de itérbio é amplamente utilizado na área de semicondutores devido às suas excelentes propriedades elétricas e térmicas. Em termos de crescimento de cristais, o óxido de itérbio é usado como material de substrato, o que pode efetivamente melhorar a qualidade dos cristais de silício. Além disso, o óxido de itérbio também pode ser usado como material de película fina para preparar dispositivos semicondutores. A fina película de óxido de itérbio pode melhorar a estabilidade e confiabilidade do dispositivo e aumentar a vida útil do dispositivo. Com o rápido desenvolvimento da indústria de semicondutores, as perspectivas de aplicação do óxido de itérbio no campo dos semicondutores também são mais amplas. O filme fino de óxido de itérbio possui boas propriedades ópticas e é um dos materiais de filme fino importantes para a preparação de nanomateriais e nanodispositivos. Além disso, o óxido de itérbio também pode ser usado para preparar dispositivos optoeletrônicos, como células solares, LEDs, etc.
O óxido de itérbio também é usado para fazer materiais de bolhas magnéticas para computadores, fazendo com que a memória da bolha magnética tenha as características de alta velocidade, grande capacidade, tamanho pequeno e multifuncional.
O óxido de itérbio também pode ser usado para criar materiais magnetostritivos. Este material tem a propriedade de magnetostrição gigante, o que significa que se expande num campo magnético. A liga é composta principalmente de liga de itérbio/ferrita e liga de disprósio/ferrita, e uma certa proporção de manganês é adicionada para produzir magnetostrição gigante.
O óxido de itérbio também é usado na fabricação de materiais de ímã permanente, aditivos de fibra óptica de vidro óptico e vidro de quartzo, corantes cerâmicos, materiais de laser, catalisadores, aditivos químicos, etc.
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